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1200℃雙溫區CVD系統時間：2024-08-27生產地址：天津廠商性質：生產廠家瀏覽量：8584
CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。
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1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統時間：2024-10-28生產地址：天津廠商性質：生產廠家瀏覽量：6710產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
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1200℃雙管滑動式單溫區/多溫區CVD系統時間：2024-10-28生產地址：天津廠商性質：生產廠家瀏覽量：7219
產品用途：此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。
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